HORIBA堀場 光柵/掩模粒子檢測系統

HORIBA堀場制作所 光柵/掩模粒子檢測系統PD10-EX

HORIBA堀場制作所 光柵/掩模粒子檢測系統PD10-EX

HORIBA堀場制作所 光柵/掩模粒子檢測系統PD10-EX

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用一臺機器完成顆粒檢測和去除，提高半導體制造工藝的效率和良率

自1984年推出以來，半導體光刻工藝不可或缺的PD系列粒子檢測系統不斷發展，以響應客戶的需求，今年是其40周年紀念日。

新產品“PD10- ex”在流行的常規型號“PD10”的基礎上，增加了顆粒去除功能，實現了一臺設備即可完成檢測和去除。

此外，我們已經開發了一個內部單元，支持自動光柵/掩模傳輸，有助于更有效的半導體制造工藝和更高的產量。

半導體行業的分析、測量和控制需求正在以****的速度變化，變得更加復雜和多樣化。我們正在努力擴展PD10-EX的功能，使其能夠進行顆粒組成的一站式分析和膜※1膜厚度的測量，并且我們將在未來繼續呈現新的可能性。

1. 通過整合顆粒檢測和去除過程，提高工作效率和產量

我們的“RP-1”顆粒去除劑的功能，其顆粒去除率超過95%※2，已與“PD10”集成。

這使得自動檢測和去除顆粒成為可能。它還配備了一個多端口，允許同時設置兩個包含網格/掩模的病例，允許連續的顆粒檢測和去除。

2. 通過與自動輸送設備連接，促進制造過程中的自動化和勞動力節約

我們開發了自己的EFEM（設備前端模塊：一個在OHT※3和需要與OHT系統接口的粒子檢測系統之間傳輸光柵/掩模的單元），用于半導體制造工廠。我們靈活地響應客戶的規格，并有助于自動化和節省勞動力-這對于提高生產力，消除勞動力短缺和簡化制造區域至關重要。

※1防塵膜，防止顆粒附著在網線/口罩的圖案表面

※2內部測試結果，玻璃表面附著5μm玻璃珠。效果可能因使用和條件而異。

※3架空葫蘆運輸：一種自動運輸裝置，使被運輸物體處于懸掛狀態，在安裝在吊頂上的軌道上運行